金融界2024年11月5日消息，国家知识产权局信息显示，深圳森丰真空镀膜有限公司申请一项名为“一种改善干涉色正侧色差的PVD膜层制备方法”的专利，公开号CN 118895484 A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本发明公开了一种改善干涉色正侧色差的PVD膜层制备方法，属于PVD镀膜领域。包括步骤：S1：基底材料放入镀膜室中，进行加热及抽真空；S2：通入氩气，开启偏压电源，进行弧光清洗；S3：开启外置磁场电源，开启两对Cr靶，沉积纯Cr层；S4：开启两对Si靶，通入N2，沉积CrSiN层；S5：通入气体C2H2，tp钱包沉积CrSiCN层；S6：关闭一对Cr靶和一对Si靶，调整Cr靶和Si靶的电流，沉积干涉膜层的CrSiCN层；S7：关闭Cr，Si靶，开启另一对Cr靶，关闭气体N2，沉积干涉膜层CrC层；S8：关闭Cr靶，开启Si靶，沉积干涉膜层SiC层，结束镀膜。通过将靶材与货品的设置适当的距离，并同时附加外置磁场，改变炉内粒子运行轨迹，使得绕镀到货品侧面的粒子增多，从而改善货品正面和侧面的色差。

本文源自：金融界

作者：情报员